The deposition of multilayer and gradient index thin films by Matrix Distributed Electron Cyclotron Resonance Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition MDECR-PECVD. - Archive ouverte HAL Access content directly
Theses Year : 2007

The deposition of multilayer and gradient index thin films by Matrix Distributed Electron Cyclotron Resonance Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition MDECR-PECVD.

Dépôt de couches minces à saut et à gradient d'indice par plasma en résonnance cyclotron.

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Abstract

This work is devoted to the study of the deposition of optical thin films and to the control of this process. Initially, the task was to develop a robust ellipsometric control technique for gradient refractive index layers. During the course of the work, it has evolved towards the broader area of ECR PECVD research and multilayer optical filter ellipsometry control. Despite the fact that HDP-PECVD is used routinely in microelectronic fabrication, many questions about this technique are still unanswered. We have investigated aspects of this technique with the aim of gaining new insights on the physical processes involved. In the thesis, the following parts of the work will be discussed, in order to present a coherent view of the subject: 1. Optical thin films, plasmas and plasma deposition technology. 2. ECR-PECVD features and development. 3. The MDECR deposition system Venus and the characterization of deposition plasmas. 4. Deposition of optical filters based on silicon oxynitride alloys, and several characterization techniques such as spectroscopic ellipsometry. 5. Kinetic ellipsometry and ellipsometric control of optical thin films. 6. Conclusion and recommendations for future work. These points represent the structure of this document. They will be detailed in the next sections and expanded upon in the following chapters.
Ce travail est consacré à l'étude de la déposition de couches minces optiques et au contrôle de ce processus. Initialement, la tâche était de développer une technique de commande robuste pour ellipsométriques gradient d'indice de réfraction des couches. Au cours des travaux, il a évolué vers le domaine plus vaste de l'ECR PECVD de recherche et de contrôle optique multicouche ellipsométrie filtre. Malgré le fait que HDP-PECVD est utilisé couramment dans la fabrication microélectronique, de nombreuses questions sur cette technique sont encore sans réponse. Nous avons étudié les aspects de cette technique dans le but d'acquérir de nouvelles connaissances sur les processus physiques impliqués. Dans cette thèse, les parties suivantes de l'œuvre seront discutées, en vue de présenter une vision cohérente de l'objet: 1. Couches minces optiques, les plasmas et de la technologie de dépôt plasma. 2. ECR-PECVD caractéristiques et le développement. 3. Le système de dépôt MDECR Vénus et la caractérisation des plasmas de dépôt. 4. Déposition de filtres optiques à base de silicium oxynitrure alliages, et plusieurs techniques de caractérisation comme ellipsométrie spectroscopique. 5. ellipsométrie cinétique et le contrôle ellipsométrique de couches minces optiques. 6. Conclusion et recommandations pour les travaux futurs. Ces points représentent la structure de ce document. Ils seront détaillés dans les sections suivantes et développé dans les chapitres suivants.
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pastel-00002930 , version 1 (28-07-2010)

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Cite

Bicher Haj Ibrahim. The deposition of multilayer and gradient index thin films by Matrix Distributed Electron Cyclotron Resonance Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition MDECR-PECVD.. Physics [physics]. Ecole Polytechnique X, 2007. English. ⟨NNT : ⟩. ⟨pastel-00002930⟩
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